导读
新时代，高科技越来越发达。朋友们看了很多科技新闻。我们也应该在生活中使用很多这些高科技的东西。朋友要注意什么？今天，我想和大家分
新时代，高科技越来越发达。朋友们看了很多科技新闻。我们也应该在生活中使用很多这些高科技的东西。朋友要注意什么？今天，我想和大家分享一条关于科技的知识。我希望你会喜欢它。
芯片的竞争一直在进行，芯片的创新也是很多竞争对手的制高点。近日，在超深亚微米工艺节点创新方面合作多年的Arm和三星代工宣布了合作之旅的新里程碑：为期待已久的极紫外(EUV)光刻技术提供首个7LPP(7nmLowPowerPlus)和5LPE(5nmLowPowerEarly)库。这是Arm与三星代工12年成功合作之旅的最新成果。双方不断从65纳米工艺引入新技术和产品库。凭借Arm独特的IP集成能力，三星代工厂可以使用Arm物理和处理器IP来验证其顶级节点的设计就绪性。
手臂上的图像。
EUV可以降低7纳米设计实现的复杂性。厂商可以将三四个光刻层改为一个光刻层，将多层改为单层，大大缩短了加工周期，减小了芯片尺寸。此外，由于比多色层更严格的设计规则，EUV可以实现更紧凑的布局。三星代工最新的7LPP EUV制造工艺，采用高能EUV光源生产具有超精细设备特性的芯片，临界尺寸仅为7nm。
Arm 7LPP物理IP平台将从2018年第三季度开始供货，面向移动、消费、高性能计算、汽车等领域的主要客户。5LPE物理IP平台产品将于2019年初提供。
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